Rumah Produk

Target yang tergagap

Semua produk

Produk Molibdenum (78)

Bagian-bagian mesin Molibdenum (104)

Molibdenum Sputtering Target (21)

Elektroda Molibdenum (12)

Bagian-bagian mesin Tungsten (28)

Batang Tungsten (15)

Paduan berat tungsten (54)

Paduan Tembaga Tungsten (64)

Paduan Tungsten Rhenium (15)

TZM Alloy (49)

Produk Tantalum (37)

Produk Niobium (19)

Target yang tergagap (17)

Zirkonium Bar (13)

Kawat Iridium (12)

Paduan Berbasis Nikel (23)

Logam Nonferrous (28)

Produk terbaik

Lapisan Vakum Target Sputtering Chromium

Target Sputtering Zirkonium Kemurnian Tinggi Zr702 Diameter 140mm / D60mm / 57mm

7.19g/cm3 Target Sputtering Kromium Tahan Korosi

$Cina Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. Sertifikasi$

Zhengzhou Sanhui adalah mitra profesional dengan kualitas yang sangat baik dan layanan yang hangat.

—— James

Kami menghargai kerja sama jangka panjang Anda dengan jaminan kualitas dan pengiriman tepat waktu, dan terima kasih banyak atas dukungan baik Anda hingga tahun 2020.

—— Bob

I 'm Online Chat Now

Target Chromium Tahan Korosi Logam

Target Chromium Tahan Korosi Logam

Sasaran Sputtering Tantalum Permukaan Cerah Kemurnian Tinggi

Kemurnian Tinggi 99,99% ITO Target In2O3:SnO2 90:10 Wt%

Target yang Dipoles / Grinding Niv7 Target Sputtering Nikel Vanadium

Kemurnian Tinggi 99,99% Min Magnesium Sputtering Target Ground

Target yang tergagap

(17)

Kemurnian Tinggi 99,999% Si Sputtering Menargetkan Kontrol Magnetik Vakum
Kontak

Kemurnian Tinggi 99,999% Si Vacuum Magnetic control Target Sputtering Spesifikasi Nama Produk Target sputtering silikon Simbol Si target tergagap Metode pembuatan Metode Czochralski Ukuran Bulat: Diameter 1mm ... Baca lebih lanjut

2021-12-23 14:51:47

Kemurnian Tinggi 99,8% Titanium Sputtering Target Kontrol Magnet Vakum
Kontak

Kemurnian Tinggi 99,8% Kontrol Magnetik Vakum Target Sputtering Titanium Kemurnian adalah salah satu indikator kinerja utama dari target titanium, karena kemurnian target memiliki pengaruh besar pada kinerja ... Baca lebih lanjut

2021-11-25 15:33:56

Target Sputtering Kromium 99,95% Murni Tinggi Persegi Panjang
Kontak

Target Sputtering Persegi Panjang Kromium 99,95% Murni Tinggi Dijual Kemurnian adalah salah satu indikator kinerja utama dari target chromium, karena kemurnian target memiliki pengaruh besar pada kinerja film. ... Baca lebih lanjut

2021-11-24 11:52:01

99,999% 5N Aluminium Vacuum Magnetron Sputtering Target Untuk Lapisan PVDPV
Kontak

99,99% Aluminium Vacuum Magnetron Sputtering Digunakan untuk Pelapisan PVD Pengantar: bahan produk 99,99% Al spesifikasi Bulat, persegi panjang.berbentuk khusus Proses pengecoran levitasi magnetik vakum ke ... Baca lebih lanjut

2021-07-19 09:17:32

PVD Coating 99,5% Target Kemurnian Zirkonium Sputtering
Kontak

99,5% Target Sputtering Zirkonium Kemurnian Tinggi Untuk Lapisan Pvd Zirkonium Sputtering Target, Zirkonium Target tersedia dalam berbagai ukuran Nilai: R60702, 99,2% min Kemurnian: 99,5% Kemurnian: 99,95% Hf Baca lebih lanjut

2021-03-17 16:56:20

ASTM B162 Target Sputtering Nikel
Kontak

Pengadaan Target Sputtering Nikel Terlaris Nama Produk Target Sputtering Nikel Purity 99,6 ~ 99,9% Standar ASTM B162 Ketebalan 0,2 mm - 30 mm Aplikasi Digunakan untuk berbagai aplikasi elemen pemanas Sistem ... Baca lebih lanjut

2021-03-04 16:08:30

Lapisan PVD Kemurnian Tinggi 99,95% Chromium Sputtering Target
Kontak

Lapisan PVD Kemurnian Tinggi 99,95% Chrome Sputtering Target Round Target Rincian CepatTarget Chrome Sputtering: Nomor Model: Cr1, Cr2 Aplikasi: peralatan pembakaran, Aero-Space, Jewellery ukuran: Dia: 6.0mm... Baca lebih lanjut

2021-01-19 14:32:56

Page 2 of 2|< << 1 2 >> >|